技術(shù)文章
當(dāng)前市場(chǎng)大量平價(jià)反射膜厚儀僅搭載單一鹵素光源,光譜區(qū)間僅 400~1100nm 可見(jiàn)光近紅外波段,缺失 190~400nm 深紫外關(guān)鍵波段,存在先天檢測(cè)盲區(qū)。紫外波段是 20~100nm 超薄氧化膜、光刻膠、有機(jī)透明涂層的核心識(shí)別波段,缺少紫外光會(huì)導(dǎo)致超薄薄膜干涉信號(hào)微弱、多層復(fù)合膜分層解析失效,僅能檢測(cè) 50nm 以上單層厚膜,半導(dǎo)體、紫外光學(xué)元件、新能源超薄涂層等場(chǎng)景無(wú)法使用,企業(yè)需額外采購(gòu)專(zhuān)用紫外測(cè)厚設(shè)備,采購(gòu)與運(yùn)維成本翻倍。單一光源光譜存在斷層,梯度膜、多層濾光膜擬合誤差大,無(wú)法同步解析每層膜光學(xué)常數(shù),研發(fā)與量產(chǎn)檢測(cè)效率極低。


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